ویفر سیلیکونی متوسط

ویفر سیلیکونی متوسط

این رسانه سیلیکونی با خلوص بالا-به گونه ای طراحی شده است که به عنوان یک پایه پردازش قابل اعتماد برای پیشرفته ترین معماری های میکروالکترونیک عمل کند. در کل بهینه شده است2 اینچ (50 میلی متر) تا 12 اینچ (300 میلی متر)این بسترها با طیف قطری، پایداری حرارتی مکانیکی لازم را برای ادغام دستگاه‌های پیچیده و چند مرحله‌ای-در محیط‌های تولیدی بسیار کنترل‌شده، فراهم می‌کنند.

مزایای فنی اصلی:

خواص جنبشی متعادل:این محیط دارای ساختار مواد کاملاً متعادلی است که پایداری حرارتی و الکتریکی را افزایش می دهد. با حفظ کنترل دقیق برغلظت اکسیژن شعاعی و کمال شبکه، رفتار ثابت را در طول{0}}کاشت یون با انرژی بالا و چرخه های انتشار حرارتی فرار تضمین می کند.

پایداری فاز در سرتاسر دسته ها:این رسانه که برای تولید-با حجم بالا طراحی شده است، در هر رده تولیدی با ثباتی استثنایی عمل می‌کند. این پایداری بین-دسته ای، انحراف فرآیند را به حداقل می رساند و امکان کنترل دقیق تر را فراهم می کندولتاژ آستانه (Vth) و تحرک حاملدر برنامه های Power IC و RF.

یکپارچگی هندسی دقیق-:این رسانه که برای سخت‌ترین کاربردها طراحی شده است، از صافی شدید (TTV) و تاب کم پشتیبانی می‌کند. این یکپارچگی هندسی هم ترازی فتولیتوگرافی با وضوح بالا را تسهیل می‌کند، که مستقیماً با افزایش درویفر{0}}سطح عملکرد و قابلیت اطمینان دستگاه.

تگ های محبوب: ویفر سیلیکونی متوسط، تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه ویفر سیلیکونی چین