هسته ویفر سیلیکونی

هسته ویفر سیلیکونی

راه حل های ویفر سیلیکونی ما از سطح اتمی و با استفاده از پیشرفته ساخته شده اندچوکرالسکی (CZ)ومنطقه شناور (FZ)روش‌های رشد کریستال برای اطمینان از ساختار شبکه فوق‌العاده خالص- و بدون نقص. پشتیبانی از طیف کامل صنعتی از2 اینچ (50 میلی متر) تا 12 اینچ (300 میلی متر)این بسترها به‌عنوان یک میزبان-با یکپارچگی بالا برای رشد اپیتاکسیال پیچیده و کاشت یون با دوز بالا عمل می‌کنند.

ما یک آستانه تهاجمی برای محتوای اکسیژن و کربن میان بافتی حفظ می کنیم، که برای اطمینان از پایداری حرارتی و جلوگیری از بارش در طول فرارترین چرخه- بازپخت خلاء بالا حیاتی است. با بهینه سازیمسطح بودن جهانی و{0}}خاص سایت (TTV و SFQR)ویفرهای ما عمق گسترده--فوکوس (DOF) را در فوتولیتوگرافی زیر{2}}میکرون پیشرفته تسهیل می‌کنند، که مستقیماً با افزایش قابل توجهی در بازده دستگاه نهایی شما مرتبط است.

تگ های محبوب: هسته ویفر سیلیکونی، تولید کنندگان هسته ویفر سیلیکونی چین، تامین کنندگان، کارخانه