فرم مواد ویفر سیلیکونی

فرم مواد ویفر سیلیکونی

این شکل مواد سیلیکونی نیمه هادی به گونه ای طراحی شده است که به عنوان یک بستر-با یکپارچگی بالا برای سخت ترین موارد استفاده شود.ساخت زیر-میکروندنباله ها در کل بهینه شده است2 اینچ (50 میلی متر) تا 12 اینچ (300 میلی متر)این مورفولوژی‌ها برای ارائه یک سطح پایدار و از نظر شیمیایی بی‌اثر مهندسی شده‌اند که به عنوان یک میزبان بکر برای یکپارچه‌سازی لایه‌های پیچیده-توسط{{1} لایه دستگاه عمل می‌کند.

مزایای فنی اصلی:

پایداری جنبشی کنترل شده:شکل مادی توسط سختگیرانه اداره می شودمیکرو-پارامترهای ساختاری، تضمین می کند که خواص فیزیکی و الکتریکی آن در طول چرخه های حرارتی{0}}خلاء بالا پایدار می ماند. این قابلیت پیش بینی برای حفظ ولتاژ آستانه یکنواخت و جلوگیری از جابجایی شبکه درآی سی برق (IGBT/MOSFET) و آی سی RF-معماری ها

حداقل تغییرپذیری فرآیند:با دستیابی به یکنواختی شعاعی شدید هم در توزیع ناخالصی و هم در صافی هندسی، این فرم ماده به شدت تنوع-به- دسته ای را کاهش می دهد. این سازگاری پنجره فرآیند گسترده‌تری را در طول آن تسهیل می‌کنداچ پلاسما و شیمی-صفحه‌سازی مکانیکی (CMP)، که مستقیماً با افزایش عملکرد{0}}سطح ویفر مرتبط است.

هندلینگ ارگونومیک و خودکار:طراحی شده برای ادغام یکپارچه با محیط‌های تولید مدرن، پروفیل‌های لبه بهینه و استحکام ساختاری، کار با مواد را برای راه‌اندازی‌های تحقیق و توسعه دستی و سرعت بالا آسان می‌کند.سیستم های انتقال رباتیک. این ضریب شکل قوی مطابق با استانداردهای جهانی استفاده صنعتی برای دوام ساختاری و کنترل آلودگی است.

تگ های محبوب: فرم مواد ویفر سیلیکونی، تولید کنندگان فرم مواد ویفر سیلیکونی چین، تامین کنندگان، کارخانه