-شمش سیلیکون کم اکسیژن برای اپیتاکسی و لیتوگرافی پیشرفته

-شمش سیلیکون کم اکسیژن برای اپیتاکسی و لیتوگرافی پیشرفته

این شمش سیلیکونی با اکسیژن کم که به‌طور خاص برای پلت‌فرم‌های اپیتاکسی-آماده ساخته شده است، رسوب اکسیژن را به حداقل می‌رساند و از استرس کریستالی در طول رشد همپایی CVD جلوگیری می‌کند. غلظت کنترل‌شده اکسیژن رفتار دریافتی را بهبود می‌بخشد، عملکرد دستگاه را برای تراشه‌های منطقی در مقیاس نانو، واحدهای شتاب ASIC و پردازنده‌های محاسباتی هوش مصنوعی افزایش می‌دهد. پایداری فوق‌العاده‌ای را در محیط‌های پلاسمایی با انرژی بالا و محفظه‌های اکسیداسیون حرارتی ارائه می‌کند و از کوره‌های دسته‌ای و سیستم‌های RTP تک-ویفر پشتیبانی می‌کند. یکنواختی عالی دی الکتریک و صافی ویفر شمش امکان تحمل تراز ظریف تری را برای لیتوگرافی پیشرفته، از جمله گره های مبتنی بر EUV- فراهم می کند. ایده آل برای فابریک هایی که به دنبال مهاجرت طولانی مدت به سمت پردازش زیر 3 نانومتر هستند.

تگ های محبوب: کم-شمش سیلیکون اکسیژن کم برای اپیتاکسی و لیتوگرافی پیشرفته، چین{1}}شمش سیلیکون کم اکسیژن برای اپیتاکسی و لیتوگرافی پیشرفته تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه