تمیز کردن فیزیکی ویفرهای سیلیکونی

سه روش برای تمیز کردن فیزیکی وجود دارد:
(1) مسواک زدن یا شستشو: می تواند آلودگی ذرات و اکثر فیلم های چسبیده به فیلم را از بین ببرد.
(2) تمیز کردن فشار بالا: مایع روی سطح فیلم اسپری می شود و فشار نازل به اندازه چند صد اتمسفر است. تمیز کردن فشار بالا به عمل جت متکی است، بنابراین احتمال خراشیدگی و آسیب دیدن فیلم کمتر است. با این حال، پاشش با فشار بالا باعث تولید الکتریسیته ساکن می شود که می توان با تنظیم فاصله و زاویه بین نازل و فیلم یا افزودن ماده ضد الکتریسیته ساکن از آن جلوگیری کرد.
(3) تمیز کردن اولتراسونیک: انرژی صوتی اولتراسونیک به محلول منتقل می شود و آلودگی روی فیلم توسط کاویتاسیون شسته می شود. با این حال، حذف ذرات کوچکتر از 1 میکرون از ورقه های طرح دار دشوارتر است. برای اثر تمیز کنندگی بهتر فرکانس را به باند فرکانس فوق العاده بالا افزایش دهید.