روش های تمیز کردن ویفرهای سیلیکونی

در تولید دستگاه های نیمه هادی، ویفرهای سیلیکونی باید به شدت تمیز شوند. مقدار کمی از آلودگی نیز می تواند باعث خرابی دستگاه شود. هدف از تمیز کردن، حذف آلودگی ها و ناخالصی های سطحی از جمله مواد آلی و معدنی است. برخی از این ناخالصی ها در حالت اتمی یا یونی و برخی به صورت لایه های نازک یا ذرات روی سطح ویفر سیلیکونی وجود دارند. آلودگی‌های آلی شامل مقاومت نوری، باقی‌مانده‌های حلال آلی، موم‌های مصنوعی، و گریس یا الیافی است که در اثر تماس انسان با دستگاه‌ها، ابزارها و ظروف ایجاد می‌شود. آلودگی غیر آلی شامل فلزات سنگین مانند طلا، مس، آهن، کروم و غیره است که به طور جدی بر طول عمر حامل اقلیت و رسانایی سطحی تأثیر می گذارد. فلزات قلیایی مانند سدیم و غیره باعث نشت جدی می شوند. آلودگی ذرات معلق شامل سرباره سیلیکون، گرد و غبار، باکتری ها، میکروارگانیسم ها، الیاف کلوئیدی آلی و غیره می تواند منجر به نقص های مختلف شود. دو راه برای از بین بردن آلودگی وجود دارد: تمیز کردن فیزیکی و تمیز کردن شیمیایی.