تفاوت بین ویفرهای سیلیکونی صیقلی و ویفرهای اپیتاکسیال چیست؟

ویفرهای سیلیکونی نیمه هادی را می توان بر اساس طبقه بندی کاربردها به ویفرهای صیقلی، ویفرهای آنیل شده، ویفرهای همپایه، ویفرهای جداکننده اتصال و ویفرهای سیلیکونی سطح بالا که توسط ویفرهای سیلیکونی SOI نمایش داده می شوند، تقسیم کرد. بنابراین تفاوت بین ویفرهای سیلیکونی صیقلی و ویفرهای اپیتاکسیال چیست؟
ویفرهای جلا داده شده را می توان برای ساخت تراشه های حافظه، دستگاه های تغذیه و مواد زیرلایه ویفرهای اپیتاکسیال استفاده کرد. ویفر اپیتاکسیال لایه ای از سیلیکون تک کریستالی است که روی ویفر صیقلی رشد می کند. به طور کلی در ساخت تراشه های پردازشگر عمومی، دیودها و دستگاه های قدرت igbt استفاده می شود. از آنجایی که ذرات پولیش اصلی ریز هستند و اندازه ذرات کوچکتر از طول موج نور مرئی است، به طور مساوی توزیع می شوند تا یک فیلم پولیش شفاف یا نیمه شفاف تشکیل دهند.